廣州化工純水設(shè)備制造的水是純度*的水,集成電路工業(yè)中用于半導體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制備和硅片氧化用的水汽源等
更新時間:2024-08-06
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
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產(chǎn)地 | 國產(chǎn) |
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純水設(shè)備是美國科技界為了研制超純材料(半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等)應(yīng)用蒸餾、去離子化、反滲透技術(shù)或其它適當?shù)某R界精細技術(shù)的制水設(shè)備,這種水中除了水分子(H20)外,幾乎沒有什么雜質(zhì),更沒有細菌、病毒、含氯二惡英等有機物,當然也沒有人體所需的礦物質(zhì)微量元素,一般不可直接飲用,對身體有害,會析出人體中很多離子。
純水設(shè)備制造的水是純度*的水。集成電路工業(yè)中用于半導體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制備和硅片氧化用的水汽源等。此外,其他固態(tài)電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路、真空管等的制作也都要使用超純水。
廣州化工純水設(shè)備超純水:既將水中的導電介質(zhì)幾乎*去除,又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機物均去除至很低程度的水。電阻率大于18MΩ*cm,或接近18.3MΩ*cm極限值。
廣州化工純水設(shè)備超純水,是一般工藝很難達到的程度,采用預處理、反滲透技術(shù)、超純化處理以及后級處理四大步驟,多級過濾、高性能離子交換單元、超濾過濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法,電阻率方可達18.25MΩ*cm
工作原理
1.主要部分流入樹脂/膜內(nèi)部,而另一部分沿模板外側(cè)流動,以洗去透出膜外的離子。
2.樹脂截留水中的溶存離子。
3.被截留的離子在電極作用下,陰離子向正極方向運動,陽離子向負極方向運動。
4.陽離子透過陽離子膜,排出樹脂/膜之外。
5.陰離子透過陰離子膜,排出樹脂/膜之外。
6.濃縮了的離子從廢水流路中排出。
7.無離子水從樹脂/膜內(nèi)流出?!?br/> 安裝注意
1、系統(tǒng)四周應(yīng)留有足夠空間用以連接水管、電源和更換耗材。
2、機器請安裝在靠近水源、電源和水槽的位置。
3、以自來水為水源的系統(tǒng),要求進水壓力要符合設(shè)備要求,進水管徑不得小于規(guī)定尺寸。
(如果壓力較低將導致系統(tǒng)不能正常運轉(zhuǎn)。如果壓力較高將可能導致系統(tǒng)漏水。)
4、需考慮進水的硬度,如硬度較高,需首先對進水進行軟化處理。
5、以純化水為水源的系統(tǒng),要求進水的TDS值需小于20PPM。
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